等离子化学气相沉积

取自 食品百科全书

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[中文]: 等离子化学气相沉积

[英文]: plasma chemical vapor deposition

[说明]: 简称PCVD。化学气相沉积(CVD)法虽是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段,但有时所需温度较高,如制备高熔点、高硬度的氮化物、碳化物或硼化物涂层时。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。

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